Procés de formació de semiconductors tipus forat

Jul 02, 2020

Procés de formació de semiconductors tipus forat

El dopatge d’elements trivalents (com el bor) en cristalls de silici pur per substituir la posició dels àtoms de silici a la xarxa cristal·lina forma un semiconductor de tipus P. En els semiconductors de tipus P, els forats són múltiples nens i els electrons lliures són nens minoritaris, que condueixen principalment l’electricitat pels forats. Com que la quantitat de càrrega positiva i la quantitat de càrrega negativa en el semiconductor de tipus P són iguals, el semiconductor de tipus P és elèctricament neutre. Els forats són proporcionats principalment per àtoms d’impuresa i els electrons lliures es formen per excitació tèrmica.


Enviar la consulta