El principi de treball de la resistència al contacte
Observeu la superfície dels contactes del connector a un microscopi. Tot i que la capa daurada és molt llisa, encara es poden observar parts aixecades de 5-10 micres. Veureu que el contacte de la parella aparellada de contactes no és el contacte de tota la superfície de contacte, sinó que el contacte s’escampa en alguns punts de la superfície de contacte. La superfície de contacte real ha de ser menor que la superfície de contacte teòrica. Segons la suavitat de la superfície i la pressió de contacte, el desfasament entre ambdues pot arribar a milers de vegades. La superfície de contacte real es pot dividir en dues parts; el primer és la peça de contacte directe metall-metall. És a dir, els micro-punts de contacte sense resistència de transició entre metalls, també coneguts com a punts de contacte, es formen després que la pel·lícula d'interfície es faci malbé per la pressió de contacte o la calor. La part representa aproximadament un 5-10% de la superfície de contacte real. El segon són les parts que es posen en contacte després de contaminar la pel·lícula mitjançant la interfície de contacte. Perquè qualsevol metall té tendència a tornar a l’estat d’òxid original. De fet, no hi ha cap superfície metàl·lica realment neta a l’atmosfera. Fins i tot si s’exposa una superfície metàl·lica molt neta a l’atmosfera, es formarà molt ràpidament una capa de pel·lícula d’òxid inicial de diversos micres. Per exemple, el coure triga només 2-3 minuts, el níquel triga uns 30 minuts i l’alumini triga només 2-3 segons. Es pot formar a la superfície una capa de pel·lícula d’òxid amb un gruix d’uns 2 micres. Fins i tot l’or de metalls preciosos especialment estable, per la seva gran energia superficial, formarà una pel·lícula d’adsorció de gas orgànic a la seva superfície. A més, la pols atmosfèrica i similars també poden formar una pel·lícula dipositada a la superfície del contacte. Per tant, a partir de l’anàlisi microscòpica, qualsevol superfície de contacte és una superfície contaminada.